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產品介紹

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5英寸掩膜板標定板光刻掩膜版精密專業繪圖加工

鉻版/光刻玻璃版

市場價:0.00

價格:0.00

到目前為止，我們有多家公司，多所高校、科研所的長期客戶。包括：湖南正芯微電子探測器有限公司，中國科學院寧波材料技術與工程研究所，上海鴻輝光通科技股份有限公司，中國科學院上海高等研究院，哈爾濱工業大學，賽納生物科技（北京）有限公司，西安派瑞功率半導體變流技術股份有限公司，西部新鋯核材料科技有限公司，蘇州全磊光電有限公司，清華大學深圳研究生院，中國科學院上海技術物理研究所，華南理工大學，江蘇斯米克電子科技有限公司，蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司，矽邁（上海）貿易有限公司，蘇州鉭氪電子科技有限公司，上海雙岸電子科技有限公司，北京納米能源與系統研究所，廈門大學，杭州眾能光電科技有限公司，中國信息通信研究院，上海集成電路研發中心有限公司，上海交通大學，哈爾濱工業大學，西安交通大學，中山大學，華中科技大學，廈門大學，北京航空航天大學，吉林大學，北京工業大學，蘇州大學，上海科技大學，蘇州鍇威特半導體有限公司，光奧科技（武漢）有限公司，廣東省半導體產業技術研究院，核工業西南物理研究院等眾多的公司、高校和科研所。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/03pg.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/ogpi.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/8tq2.jpg" width="750" height="750" style=""/>
標定板光刻掩膜版精密專業繪圖3/4/5/6英寸定制

鉻版/光刻玻璃版

市場價:0.00

價格:0.00

到目前為止，我們有多家公司，多所高校、科研所的長期客戶。包括：湖南正芯微電子探測器有限公司，中國科學院寧波材料技術與工程研究所，上海鴻輝光通科技股份有限公司，中國科學院上海高等研究院，哈爾濱工業大學，賽納生物科技（北京）有限公司，西安派瑞功率半導體變流技術股份有限公司，西部新鋯核材料科技有限公司，蘇州全磊光電有限公司，清華大學深圳研究生院，中國科學院上海技術物理研究所，華南理工大學，江蘇斯米克電子科技有限公司，蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司，矽邁（上海）貿易有限公司，蘇州鉭氪電子科技有限公司，上海雙岸電子科技有限公司，北京納米能源與系統研究所，廈門大學，杭州眾能光電科技有限公司，中國信息通信研究院，上海集成電路研發中心有限公司，上海交通大學，哈爾濱工業大學，西安交通大學，中山大學，華中科技大學，廈門大學，北京航空航天大學，吉林大學，北京工業大學，蘇州大學，上海科技大學，蘇州鍇威特半導體有限公司，光奧科技（武漢）有限公司，廣東省半導體產業技術研究院，核工業西南物理研究院等眾多的公司、高校和科研所。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/czac.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/g1z3.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/utrl.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/w9em.jpg" width="750" height="750" style=""/>
孔陣列鍍膜磁控濺射精密掩膜版 Shadow Mask

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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?主要采用高精度化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的工藝條件，特點如下，供大家參考。1.性價比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過化學腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對較低。2.高精度化學腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。 3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價格貴。 掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/fl4q.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/23da.jpg" width="750" height="750" style=""/>
定制CVD掩膜板晶體管溝道精密掩膜板/叉指電極

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

市場價:0.00

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主要采用高精度化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的工藝條件，特點如下，供大家參考。1.性價比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過化學腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對較低。2.高精度化學腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。 3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價格貴。 掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來說，化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點（適合在熱蒸發鍍膜機中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設計），一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/lpmv.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150234_052.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/fl4q.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/9m2o.jpg" width="750" height="750" style=""/>
膠片光刻掩膜版聚酯光掩膜光學掩膜版來圖定做

菲林版/膠片

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?掩模板/掩膜版可以應用于OPV Perovskite OFEF PLED Device等各種器件圖形化薄膜和電極。具體價格請和店家聯系，不同的規格和數量價格不同，10元只是方便大家拍。主要采用精密化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的精密化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。1.最低可以在0.1mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.15mm(150um)，空隙（挖孔）0.01mm(100um)，誤差一般正負0.03mm(30um)，成本相對較貴。2.性價比較高的是在0.3mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.04mm(400um)，誤差正負0.05mm(50um)，速度快，成本中等。3.直接激光切割后打磨，最低厚度0.75mm，空隙大于1mm，不能是孔陣列（因為激光加工，孔太多，容易變形），速度快，價格便宜。4.高精度激光加工，可以加工空隙40um，間隙500um的圖案，加工難度大，價格較貴。掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來說，精密化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；激光切割和焊接出來的稍微粗糙點，一般都會打磨，但價格便宜些，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖，我們會根據我們的經驗提供合理化的加工建議后，設計圖紙給客戶確認后，正式下單定做。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/xty8.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/1y83.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/0lnt.jpg" width="750" height="750" style=""/>
叉指電極掩膜版叉指電極掩模板不銹鋼掩膜版

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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我司有少量叉指電極掩膜版/掩模板樣品（最小線寬100um)，可以100元/片低價提供給各位科研者試用，如有需要請聯系店主。主要采用高精度化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的高精度化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。1.性價比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過化學腐蝕制作線條寬0.5mm(500um)，鏤空（挖孔）0.25mm(250um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對較低。2.性價比高的是不銹鋼板材厚度大于或等于0.3mm，圖形中線寬的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整體尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。3.高精度化學腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。4.超高精度的激光加工可以制作線寬0.025mm(25um)的掩膜版，誤差5um，價格貴。掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來說，化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點（適合在熱蒸發鍍膜機中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設計），一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_054.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_053.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_055.jpg" width="750" height="750" style=""/>
光學掩膜版來圖定做速成光掩膜板

菲林版/膠片

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掩模板/掩膜版可以應用于OPV Perovskite OFEF PLED Device等各種器件圖形化薄膜和電極。具體價格請和店家聯系，不同的規格和數量價格不同，10元只是方便大家拍。主要采用精密化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的精密化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。1.最低可以在0.1mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.15mm(150um)，空隙（挖孔）0.01mm(100um)，誤差一般正負0.03mm(30um)，成本相對較貴。2.性價比較高的是在0.3mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.04mm(400um)，誤差正負0.05mm(50um)，速度快，成本中等。3.直接激光切割后打磨，最低厚度0.75mm，空隙大于1mm，不能是孔陣列（因為激光加工，孔太多，容易變形），速度快，價格便宜。4.高精度激光加工，可以加工空隙40um，間隙500um的圖案，加工難度大，價格較貴。掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/hkc0.jpg" width="750" height="748" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/iayo.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/fgqd.jpg" width="750" height="750" style=""/>
熱電偶模具聚四氟乙烯不銹鋼掩膜版定制可開票

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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我司專業定做不銹鋼掩模板金屬掩膜版真空鍍膜熱蒸發磁控濺射電子束鍍膜，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實驗室使用，也適合于工廠批量生產，掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等真空鍍膜設備中，用來制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產品，具體價格需要發圖紙確認后，才能正式報價，淘寶鏈接，只是為了方便大家拍，請周知，謝謝！<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151459_061_kkp8.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2PLt7zNGYBuNjy0FnXXX5lpXa_!!3383161813.jpg" width="750" height="750" style=""/>
黑色遮光片/不反光遮光片/不銹鋼遮光片/Reticle/mask

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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主要采用化學腐蝕或者高精密激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。按照目前的化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。1 .最低可以在0.3mm的304或201不銹鋼鋼板上制作線條寬0.5mm(500um)，鏤空（挖孔）0.25mm(250um)，誤差正負0.05mm(50um)，速度快，成本相對較低。 2.不銹鋼板材厚度大于或等于0.3mm，圖形中槽的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整體尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來說，化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點，一般都會打磨，但價格便宜些，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151812_062.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151812_063.jpg" width="750" height="750"/>
精密掩膜版薄膜晶體管蒸鍍磁控濺射掩膜版組合金屬版

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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