掩模板/掩膜版可以應用于OPV Perovskite OFEF PLED Device等各種器件圖形化薄膜和電極。具體價格請和店家聯系，不同的規格和數量價格不同，10元只是方便大家拍。

主要采用精密化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。

按照目前的精密化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。

1.最低可以在0.1mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.15mm(150um)，空隙（挖孔）0.01mm(100um)，誤差一般正負0.03mm(30um)，成本相對較貴。

2.性價比較高的是在0.3mm的304不銹鋼鋼板上制作實體0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.04mm(400um)，誤差正負0.05mm(50um)，速度快，成本中等。

3.直接激光切割后打磨，最低厚度0.75mm，空隙大于1mm，不能是孔陣列（因為激光加工，孔太多，容易變形），速度快，價格便宜。

4.高精度激光加工，可以加工空隙40um，間隙500um的圖案，加工難度大，價格較貴。

掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。