主要采用化學腐蝕或者高精密激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。

按照目前的化學腐蝕工藝條件，特點如下，供大家參考。

1 .最低可以在0.3mm的304或201不銹鋼鋼板上制作線條寬0.5mm(500um)，鏤空（挖孔）0.25mm(250um)，誤差正負0.05mm(50um)，速度快，成本相對較低。

2.不銹鋼板材厚度大于或等于0.3mm，圖形中槽的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整體尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。

掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。

備注：一般來說，化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點，一般都會打磨，但價格便宜些，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。

請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。