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產(chǎn)品介紹

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孔陣列鍍膜磁控濺射精密掩膜版 Shadow Mask

金屬掩膜版/不銹鋼掩膜版

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?主要采用高精度化學(xué)腐蝕或者激光切割和焊接工藝來(lái)制備不銹鋼掩模板。按照目前的工藝條件，特點(diǎn)如下，供大家參考。1.性價(jià)比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過(guò)化學(xué)腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對(duì)較低。2.高精度化學(xué)腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實(shí)體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請(qǐng)合理考慮誤差，并根據(jù)誤差情況，設(shè)計(jì)好自己的圖案結(jié)構(gòu)，圖案結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，能事半功倍。價(jià)格相對(duì)較貴。 3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價(jià)格貴。 掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來(lái)制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/fl4q.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/23da.jpg" width="750" height="750" style=""/>
定制CVD掩膜板晶體管溝道精密掩膜板/叉指電極

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主要采用高精度化學(xué)腐蝕或者激光切割和焊接工藝來(lái)制備不銹鋼掩模板。按照目前的工藝條件，特點(diǎn)如下，供大家參考。1.性價(jià)比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過(guò)化學(xué)腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對(duì)較低。2.高精度化學(xué)腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實(shí)體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請(qǐng)合理考慮誤差，并根據(jù)誤差情況，設(shè)計(jì)好自己的圖案結(jié)構(gòu)，圖案結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，能事半功倍。價(jià)格相對(duì)較貴。 3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價(jià)格貴。 掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來(lái)制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來(lái)說(shuō)，化學(xué)腐蝕工藝制備出來(lái)的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價(jià)格貴些；高精度激光切割和焊接出來(lái)的稍微粗糙點(diǎn)（適合在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設(shè)計(jì)），一般都會(huì)打磨，但是滿足正常的實(shí)驗(yàn)需要一般都沒(méi)有問(wèn)題。有特殊要求的客戶一定要提前說(shuō)明。請(qǐng)買家盡量提供CAD圖紙，如果實(shí)在不能提供，請(qǐng)?zhí)峁┛梢詼?zhǔn)確描述掩模板規(guī)格的草圖。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/lpmv.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150234_052.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/fl4q.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/9m2o.jpg" width="750" height="750" style=""/>
叉指電極掩膜版叉指電極掩模板不銹鋼掩膜版

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我司有少量叉指電極掩膜版/掩模板樣品（最小線寬100um)，可以100元/片低價(jià)提供給各位科研者試用，如有需要請(qǐng)聯(lián)系店主。主要采用高精度化學(xué)腐蝕或者激光切割和焊接工藝來(lái)制備不銹鋼掩模板。按照目前的高精度化學(xué)腐蝕工藝條件，特點(diǎn)如下，供大家參考。1.性價(jià)比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過(guò)化學(xué)腐蝕制作線條寬0.5mm(500um)，鏤空（挖孔）0.25mm(250um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對(duì)較低。2.性價(jià)比高的是不銹鋼板材厚度大于或等于0.3mm，圖形中線寬的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整體尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。3.高精度化學(xué)腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實(shí)體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請(qǐng)合理考慮誤差，并根據(jù)誤差情況，設(shè)計(jì)好自己的圖案結(jié)構(gòu)，圖案結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，能事半功倍。價(jià)格相對(duì)較貴。4.超高精度的激光加工可以制作線寬0.025mm(25um)的掩膜版，誤差5um，價(jià)格貴。掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來(lái)制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來(lái)說(shuō)，化學(xué)腐蝕工藝制備出來(lái)的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價(jià)格貴些；高精度激光切割和焊接出來(lái)的稍微粗糙點(diǎn)（適合在熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設(shè)計(jì)），一般都會(huì)打磨，但是滿足正常的實(shí)驗(yàn)需要一般都沒(méi)有問(wèn)題。有特殊要求的客戶一定要提前說(shuō)明。請(qǐng)買家盡量提供CAD圖紙，如果實(shí)在不能提供，請(qǐng)?zhí)峁┛梢詼?zhǔn)確描述掩模板規(guī)格的草圖。<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_054.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_053.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_150520_055.jpg" width="750" height="750" style=""/>
熱電偶模具聚四氟乙烯不銹鋼掩膜版定制可開票

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我司專業(yè)定做不銹鋼掩模板金屬掩膜版真空鍍膜熱蒸發(fā) 磁控濺射電子束鍍膜，主要適合于高校、科研所、高科技公司的實(shí)驗(yàn)室使用，也適合于工廠批量生產(chǎn)，掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等真空鍍膜設(shè)備中，用來(lái)制備OTFT、OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。由于都是定制的產(chǎn)品，具體價(jià)格需要發(fā)圖紙確認(rèn)后，才能正式報(bào)價(jià)，淘寶鏈接，只是為了方便大家拍，請(qǐng)周知，謝謝！<img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151459_061_kkp8.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/TB2PLt7zNGYBuNjy0FnXXX5lpXa_!!3383161813.jpg" width="750" height="750" style=""/>
黑色遮光片/不反光遮光片/不銹鋼遮光片/Reticle/mask

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主要采用化學(xué)腐蝕或者高精密激光切割和焊接工藝來(lái)制備不銹鋼掩模板。按照目前的化學(xué)腐蝕工藝條件，特點(diǎn)如下，供大家參考。1 .最低可以在0.3mm的304或201不銹鋼鋼板上制作線條寬0.5mm(500um)，鏤空（挖孔）0.25mm(250um)，誤差正負(fù)0.05mm(50um)，速度快，成本相對(duì)較低。 2.不銹鋼板材厚度大于或等于0.3mm，圖形中槽的尺寸大于或等于0.25mm。掩模板整體尺寸在10×10×0.3mm以上的效果好。掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來(lái)制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。備注：一般來(lái)說(shuō)，化學(xué)腐蝕工藝制備出來(lái)的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價(jià)格貴些；高精度激光切割和焊接出來(lái)的稍微粗糙點(diǎn)，一般都會(huì)打磨，但價(jià)格便宜些，但是滿足正常的實(shí)驗(yàn)需要一般都沒(méi)有問(wèn)題。有特殊要求的客戶一定要提前說(shuō)明。請(qǐng)買家盡量提供CAD圖紙，如果實(shí)在不能提供，請(qǐng)?zhí)峁┛梢詼?zhǔn)確描述掩模板規(guī)格的草圖。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151812_062.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151812_063.jpg" width="750" height="750"/>
精密掩膜版薄膜晶體管蒸鍍磁控濺射掩膜版組合金屬版

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?主要采用高精度化學(xué)腐蝕或者激光切割和焊接工藝來(lái)制備不銹鋼掩模板。按照目前的工藝條件，特點(diǎn)如下，供大家參考。1.性價(jià)比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過(guò)化學(xué)腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對(duì)較低。2.高精度化學(xué)腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實(shí)體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請(qǐng)合理考慮誤差，并根據(jù)誤差情況，設(shè)計(jì)好自己的圖案結(jié)構(gòu)，圖案結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，能事半功倍。價(jià)格相對(duì)較貴。 3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價(jià)格貴。 掩模板可以應(yīng)用于電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，磁控濺射等設(shè)備中，用來(lái)制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽(yáng)能電池，光電探測(cè)器，場(chǎng)效應(yīng)晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。 <img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151203_058.jpg" width="750" height="750" style=""/><img src="http://pro764880.pic48.websiteonline.cn/upload/20200225_151203_057.jpg" width="750" height="750" style=""/>

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