主要采用高精度化學腐蝕或者激光切割和焊接工藝來制備不銹鋼掩模板。

按照目前的工藝條件，特點如下，供大家參考。

1.性價比高的是在0.3mm厚度的304不銹鋼鋼板上通過化學腐蝕制作線條寬0.4mm(400um)，鏤空（挖孔）0.4mm(400um)，誤差是30-60um，速度較快，成本相對較低。

2.高精度化學腐蝕可以制作線寬0.1mm(100um)的叉指電極掩膜版，實體部分誤差30um，空隙部分誤差60um，請合理考慮誤差，并根據誤差情況，設計好自己的圖案結構，圖案結構設計合理，能事半功倍。價格相對較貴。 

3.超高精度的激光加工可以制作線寬0.04mm(40um)的掩膜版，誤差20um，價格貴。 

掩模板可以應用于電子束蒸發，熱蒸發，磁控濺射等設備中，用來制備OPV、OLED、鈣鈦礦太陽能電池，光電探測器，場效應晶體管等各種器件圖形化薄膜和電極。

備注：一般來說，化學腐蝕工藝制備出來的掩模板/掩膜版更光滑，平整度更好，但價格貴些；高精度激光切割和焊接出來的稍微粗糙點（適合在熱蒸發鍍膜機中蒸鍍電極，掩模板有凹槽設計），一般都會打磨，但是滿足正常的實驗需要一般都沒有問題。有特殊要求的客戶一定要提前說明。

請買家盡量提供CAD圖紙，如果實在不能提供，請提供可以準確描述掩模板規格的草圖。