光刻技術--Lithography Technology光刻一種精密的微細加工技術。常規光刻技術是采用紫外光作為圖像信息載體，以光致抗光刻技術蝕劑為中間（圖像記錄）媒介實現圖形的變換、轉移和處理，最終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質層上的一種工藝。

公司提供電子束光刻、步進式光刻、接觸式光刻等光刻技術，線寬最小可達10nm，多種光刻結合的先進光刻理念，實現您不同尺寸的光刻需求。

電子束光刻：最小線寬50nm（成熟），適合在導電襯底、圖形面積小的圖形加工。　

投影式光刻：stepper i7/i10/i12，最小線寬350nm，適合在標準圓片上有量加工。　

接觸、接近式光刻：MA6/BA6光刻機，最小線寬1um，適合正反套刻，襯底包容性高。

此產品屬于定制產品，可根據客戶需求來定制，如果需要設計，請聯系我們客服或者直接電話聯系，聯系方式：18948794270，我們竭誠為您服務！